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    擴散氧化爐(科研型)

    本設備為科研型擴散氧化爐,適用于企業研發、大學及科研院所的科研與教學??蓾M足閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散、退火常壓、退火/推進、合金等工藝。
    沒有此類產品
    產品描述
    設備特點
    ●可滿足閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散、退火常壓、退火/推進、合金等工藝
    ●采用高可靠性工控機+PLC模式,對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門進行全自動控制,實現全部工藝過程自動化;
    ●具有友好的人機界面,用戶可以方便地修改工藝控制參數,并可隨時顯示各種工藝狀態;
    ●具有多種工藝管路,可供用戶方便選擇;
    ●具有強大的軟件功能,配有故障自診斷軟件,可大大節省維修時間;
    ●恒溫區自動調整,串級控制,可準確控制反應管的實際工藝溫度;
    ●具有超溫、斷偶、熱偶短路、工藝氣體流量偏差報警和保護功能; 
    ●可根據用戶要求定制產品。
     
    技術指標
    ●適用晶片尺寸 :  2~8英寸圓片
    ●工作溫度: 600℃~1300℃; 
    ●可配工藝管數量:1~2管/臺
    ●恒溫區長度及精度:≤±0.5℃/300~600mm (800℃~1300℃),
    ● 單點溫度穩定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃); 
    ●溫度斜變能力:最大升溫速率20℃/min,最大降溫速率5℃/min; 
    未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
    暫未實現,敬請期待
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