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擴散氧化爐（科研型）
產品描述
設備特點
●可滿足閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴散、退火常壓、退火/推進、合金等工藝
●采用高可靠性工控機+PLC模式，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門進行全自動控制,實現全部工藝過程自動化；
●具有友好的人機界面，用戶可以方便地修改工藝控制參數，并可隨時顯示各種工藝狀態；
●具有多種工藝管路，可供用戶方便選擇；
●具有強大的軟件功能，配有故障自診斷軟件，可大大節省維修時間；
●恒溫區自動調整，串級控制，可準確控制反應管的實際工藝溫度；
●具有超溫、斷偶、熱偶短路、工藝氣體流量偏差報警和保護功能；
●可根據用戶要求定制產品。
技術指標
●適用晶片尺寸 ： 2~8英寸圓片
●工作溫度： 600℃～1300℃；
●可配工藝管數量：1~2管/臺
●恒溫區長度及精度：≤±0.5℃/300~600mm （800℃～1300℃），
● 單點溫度穩定性：≤±0.5℃℃ /24h （1100℃）；
●溫度斜變能力：最大升溫速率20℃/min，最大降溫速率5℃/min；
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