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    管式真空爐

    管式真空爐是在原有管式爐的基礎上,增加真空系統,使客戶獲得高潔凈腔體,提供清潔無雜質的高真空狀態,加熱溫度均勻且能夠精確控制,特別適用于半導體器件或其他對環境要求高的材料的退火工藝,工件質量優良,成品率高。
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    產品描述
    設備特點
    ●外形美觀,占地面積小
    ●采用高精度、多功能溫控儀,可自動調節與修改PID參數,存儲控溫曲線并可隨時修改、刪除以及重新設定,操作簡單方便
    ●具備多項故障顯示,報警及連鎖保護功能
    ●爐體可以移動推拉,以加速低溫段的降溫
     
    技術指標
    ●適用工藝片尺寸:2~8英寸圓片或方片
    ●常用工作溫度:400~1000℃
    ●恒溫區長度及精度:≤±0.5℃/400~800mm   (600~1000℃);
              ≤±1℃/400~800mm   (300~600℃)
    ●最大升溫速率: 10℃/min 
    ●極限真空度:≤5×10-3Pa;
    ●氣路系統:氧氣、氮氣、氬氣;
     
    應用范圍
      用于陶瓷電路、傳感器燒結及退火處理、永磁合金制造、真空釬焊、真空除氣、金屬材料的無氧化光亮熱處理等工藝。
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