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    離子束刻蝕機

    離子束刻蝕又稱為離子銑,利用離子源引出的離子束,直接轟擊工件,將工件上未被掩膜遮蔽的部分材料濺射出來,實現選擇刻蝕的目的。
    沒有此類產品
    產品描述
    設備特點
    ●工件臺:圓周旋轉或者掃描運動,刻蝕角度可調,刻蝕均勻性高,兼容刻蝕和拋光功能 
    ●工件臺采用水冷,確保晶片低溫刻蝕 
    ●可配置等離子體中和槍,確保晶片表面無電荷積累 
    ●可配置法拉第測束裝置,確保工藝參數的可重復 
    ●真空系統分子泵/低溫泵可選
     
    技術指標
    ●工件臺 
        適用晶片尺寸:4"~8",兼容不規則方片
        圓周旋轉/往復掃描運動
    ●離子源:考夫曼離子源 
         離子束能量:0eV~1000eV連續可調 
         束流 :最大200mA (圓形)或最大300mA (條形)
    ●刻蝕均勻性 :片內±5%,片間±3%
     
    應用范圍
      用于在基板表面拋光或材料的去除,尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕,如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、NiCr等
    未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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